整流电源与其他工业技术相比,电镀技术的设备不仅很简单,电镀设备企业,而且有很大的变通性,以电源为例,只要是能够提供直流电的装置,就可以拿来做电镀电源,从电池到直流发电机,从桥堆到硅整流器、从可控硅到开关电源等,都是电镀可用的电源。其功率大小既可以由被镀产品的表面积来定,也可以用现有的电源来定每槽可镀的产品多少。当然,正式的电镀加工都会采用比较---的硅整流装置,并且主要的指标是电流值的大小和可调范围,电压则由0~18v随电流变化而变动。根据功率大小而可选用单相或三相输入,要能防潮和散热。工业用电镀电源一般从l00a到几千安不等,通常也是根据生产能力需要而预先设计确定的,好是单槽单用,江苏省电镀设备,不要一部电源向多个镀槽供电。如果只在实验室做试验,电镀设备厂,则采用5~1oa的小型实验整流电源就行了。1993年我国机械工业部组织编制了电镀用整流设备的标准(jb/t1504-1993),对我国设计和生产的电镀整流器的型号、规格、技术参数等都作出了相关规定。随着电力科学技术的进步,在整流电源的设计和制作上已经有很大改进,很多电镀电源已经向多功能、大功率、小体积等方向发展。自动换向、可调脉冲、平滑调节等都已经是常见的功能。
发展阶段
(1)直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声大.已经被淘汰。(2) 硅整流阶段是直流发电机的换代产品,技术十分成熟,但效率低,电镀设备厂家,体积大,控制不方便。仍有许多企业使用这种电镀电源。(3) 可控硅整流阶段是替代硅整流电源的主流电源,具有、体积小、调控方便等特点。随着器件——可控硅技术的成熟与发展.该电源技术日趋成熟,已获得广泛应用。(4) 晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是当今为---的电镀电源,它的出现是电镀电源的一次---。这种电源具有体积小、、性能、纹波系数稳定.而且不易受输出电流影响等特点。脉冲电镀电源是发展的方向,现已开始在企业中使用。
电镀的过程基本如下:镀层金属在阳极待镀物质在阴极阴阳极以镀上去的金属的正离子组成的电解质溶液相连通以直流电的电源后,阳极的金属会氧化(失去电子),溶液中的正离子则在阴极还原(得到电子)成原子并积聚在阴极表层。电镀后被电镀物件的美观性和电流大小有关系,电流越小,被电镀的物件便会越美观;反之则会出现一些不平整的形状。电镀的主要用途包括防止金属氧化(如锈蚀) 以及进行装饰。不少的外层亦为电镀。电镀产生的污水(如失去效用的电解质)是水污染的重要来源。电镀工艺已经被广泛的使用在半导体及微电子部件引线框架的工艺。vcp:垂直连续电镀,电路板使用的新型机台,比传统悬吊式电镀品质---。
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